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PVD工艺—真空蒸镀镀膜仿真

发布时间:2023-12-20 18:33:08 点击次数:5452 次

PVD工艺—真空蒸镀镀膜仿真

真空蒸发镀膜是在真空条件下,用蒸发器加热蒸发物质使之汽化,蒸发粒子流直接射向基板上沉积形成固态薄膜的技术。

蒸镀示意图

PEGASUS软件中的RGS3D模块用于稀薄气体仿真。RGS3D利用直接蒙特卡洛方法模拟气体分子的碰撞和输运过程,可以计算三维任意形状的稀薄气体流动,既可以处理结构化网格也可以处理4面体的非结构化网格模型,支持模型中有运动的部件、蒸发源、进气出气端口等特征。可以输出中性粒子密度、温度、流速、能量分布等参数,可以统计粒子的压强、平均自由程、流场分布等参数。

RGS3D是用于分析稀薄气体流场的模块。擅长解析Kn数(克努森数)大的流场,超过了将气体视为连续体处理的NS方程的适用极限。在计算机内配置多个样品粒子,计算粒子的碰撞,使用追踪运动这样的DSMC法进行解析。

RGS3D除了通常的DSMC法以外,还可以选择:Kn1的自由分子流区域,粒子碰撞可以忽略,采用蒙特卡洛(MC)法。

PEGASUS的RGS3D模块是中性气体仿真模块。其特点是:用硬球模型处理稀薄气体,利用直接蒙特卡洛方法模拟气体分子的碰撞和输运过程。三维(RGS3D)模块可以计算三维任意形状的稀薄气体流动,可以处理结构化网格也可以处理4面体的非结构化网格模型。采用多种碰撞模型,甚至可以处理粘性流。可以输出中性粒子密度、温度、能量分布函数,可以统计粒子的压强、平均自由程、流场分布等。该模块支持多核并行。

RGS3D可以处理气相反应a1 A1 + a2 A2 → b1 B1 + b2 B2。反应可分为吸热反应和放热反应,反应的发生可以使用反应能量或者反应速率常数判断。可以计算的壁面反应为A1 → b1 B1 + b2 B2。

RGS3D可以和热分析模块HTRM3D耦合仿真,以对热传递、热辐射效应进行联合仿真。

RGS3D的计算结果可以作为表面模块FPSM3D的输入参数,进行沉积、薄膜生长过程仿真。

RGS3D可以用于:稀薄气体动力学计算、抽真空过程计算、真空蒸镀设备仿真、……

RGS3D的输出文件包括:

?密度、温度、压强、速度、流速

?mol、m.f.p、碰撞频率

?粒子通量、热通量

如果要进一步计算薄膜生长中膜厚的变化,特别是基底上有微观沟槽结构时,可以利用上一步到达基底的流量数据,计算薄膜生长过程。薄膜镀膜生长过程采用FPSM3D模块,计算物理反应和化学反应带来的固体壁面随时间变化的特征轮廓,得到刻蚀、沉积、多层镀膜等工艺过程产生的表面轮廓演化、气相各组分分布等结果。算法包括蒙特卡洛法、元胞法。通常计算纳米~微米尺度的微观结构。

本例计算三蒸发源蒸镀有机发光材料AlQ3以及表面膜厚生长过程。采用的模块包括真空蒸镀模块RGS3D和表面形貌模块FPSM3D。本案例可以用于OLED镀膜工艺仿真。

三蒸发源真空蒸镀模型

RGS3D模块所使用的网格可通过SALOME软件(或者FEMAP)生成,网格类型为非结构化网格,主要由二维三角形网格与三维四面体网格组成。

整体模型分为多个面边界:

  1. In1:蒸发源1的上流入面
  2. In2:蒸发源2的上流入面
  3. In3:蒸发源3的上流入面
  4. Wall:腔室外壁面
  5. Source_wall::蒸发源外壁面
  6. Separator:各蒸发源之间的分隔板
  7. Shield:蒸发源挡板
  8. Glass:蒸镀基底
  9. Glass_t:蒸镀基底上的监控面(主要用于采集数据,记录薄膜生长计算所需的粒子角度速度频率等数据)

Particle选项卡,用户可在此处选择软件数据库中已经有的粒子信息,也可以自定义全新的粒子信息,在三蒸发源真空蒸镀案例中,为了区分不同蒸发源的蒸发情况,因此设置了三种粒子,数据参数相同,名称不同。

Calculation step,sampling选项卡,主要用于设置计算引擎启动时各项参数。

Calculation step,sampling选项卡

initial dens,etc选项卡粒子初始条件、重力加速度和蒸气压曲线的设置

initial dens,etc选项卡

Boundary边界设置。界面属性包括:flowin boundary、Wall boundary、Symmetry boundary和measure boundary四种,每种界面还区分是否在计算空间内:inter-domain boundary。

边界设置界面

设置液面在不同温度下,每秒蒸发的粒子流量数据,可以参考下图,通过实验值数据,拟合出一条直线,通过对数运算后,可得到流量为1.04e19(/m2/s)。

Alq3在不同温度下的蒸发流量
监控单元设置界面

FPSM模块需要RGS3D模块提供的速度分量的频率差文件,名称为velocdist.csv;在选择坐标系时,选择创建的局部坐标系。

参数配置完成之后,点击主界面中run按钮串行启动计算引擎,通常采用并行计算。

软件输出如下后处理文件,其中只包含Pegasus后处理可查看的文件格式。或者可通过Post File进行转换,例如输出VTK格式文件,用第三方软件查看结果。

三个蒸发源到基底流量(基底直线运动)
三个蒸发源粒子空间分布(压强)
三个蒸发源粒子空间分布(密度)

FPSM模块需要在软件内部进行建模,需要设置Species、Reaction、Geometry、Control Parameter四部分。

Species设置

对于流入粒子,需要设置其气体状态与固体状态(沉积),固体状态下类型为surface,需要添加密度数据。其中需要专门设置一个Wall类型,在右边选择可能构成固体面的基本物质,如Alq3和SiO2,然后设置ID和name等。

Species界面

Reaction设置

Reaction界面如下图所示,主要设置各种沉积反应和壁面反射,如果有刻蚀反应也需要添加,本案例中不涉及刻蚀反应。

Reaction界面

Geometry(struct)设置

在主界面中点击Geometry按钮,弹出建模界面,点击右键菜单-set Domain,按如下参数设置计算域,注意调整单位等参数。

几何模型

在Geometry的边界条件设置中设置上方为气体流入,并且分别设置3种气体的流入参数。

FPSM3D与RGS3D耦合时,需要RGS3D生成的粒子速度频率数据,RGS3D的计算引擎以数据表格形式输出。

Control Parameter设置

Control Parameter界面如下图所示,用户可设置输出时间步,每隔3s输出一次;如需对基地进行进一步的设置,可以切换至Plate选项卡,本案例中不对基底做特殊设置。

对于基板的运动,设置运动速度。

MVSUB 0.0 1.5 [m]

0.1 ! [m/s] (基板移动速度)

2.2.2 查看结果

计算完成后进入后处理界面,查看后处理结果,可以查看不同粒子在空间中的密度分布与速度分布,同时可以查看粒子沉积结果。

三种粒子沉积结果


基底沟槽不是矩形时,会形成遮挡效应。这里利用真空蒸镀的到壁面流量数据,计算凸出形状为梯形的基底沉积模型。

特殊形状沟槽的property设置和后处理显示效果
左侧蒸发源沉积的粒子
中间蒸发源沉积的粒子
右侧蒸发源沉积的粒子
三种粒子沉积+SiO2形状
3D沉积轮廓
9秒时中间蒸发源粒子密度
9秒时左侧蒸发源粒子密度
9秒时右侧蒸发源粒子密度

PEGASUS软件可以对真空蒸镀的过程进行仿真,该仿真建立在用户给定的真空腔体结构、进气抽气口参数(流量或气压)、蒸发源温度(由公式算出蒸发率)的基础上,展开3维仿真。经过多次仿真计算,可以筛选出最优的结构布局和工艺参数。

参考网页:btitgroup.com/About.asp




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