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真空腔体的用途和特点有哪些?

发布时间:2023-12-23 16:16:52 点击次数:7209 次

真空镀膜设备30.jpg


一、用途


1. 材料制备和处理


真空腔体在材料制备和处理方面有着广泛的用途,包括沉积、蒸发、热处理、清洗、表面改性等,这些处理需要在真空或者低气压状态下进行。例如,蒸发镀膜是一种常见的材料制备技术,对于光学、电子和医疗等行业都有很大的应用,如制造LED、太阳能电池、磁性存储介质等。


2. 实验室研究


真空腔体还被用于进行各种实验室研究,如物理学、化学、天文学等。在这些研究中,真空腔体被用来模拟各种高压、高温、高能环境。例如,使用真空腔体进行高压反应或者研究宇宙射线等。


3. 医疗器械


真空腔体被应用于一些医疗器械中,如透析机、人工心肺机等。这些器械需要在严格的无菌环境下进行操作,以避免细菌和病毒的污染。


4. 工业自动化


真空腔体在工业现场也有广泛的应用,如半导体工业、真空包装等。在半导体工业,真空腔体用于清洗硅片表面,并在制造过程中保护电子元件免受杂质、尘埃和湿气的影响。而在真空包装中,真空腔体被用于包装食品、化妆品、药品等为了延长产品的保质期。


二、特点


1. 低压或真空


真空腔体的特点是它们能够创建低压或者真空环境。这种环境能够极大的减少气压对机械、电子设备,甚至生物体的影响,减少氧化、腐蚀和污染等。真空腔体内的空气分子较少,因此其传热,传质能力降低,从而能够减少传热和传质方面造成的影响。


2. 透明的窗口


真空腔体通常包含至少一个透明窗口。这个窗口不仅能够让人们观察到腔体内的实验和过程,还可以用来通过不同波长的光线进行吸收和放射的研究。根据要进行的研究,窗口可以使用不同材料,例如石英、玻璃、聚合物等。


3. 省电


真空腔体始终处于无氧状态,所以它需要的能量少,因此相对省电。对于某些长期运行的设备,省电效益非常显著,如现代照明、电视、通信等。


4. 可定制


真空腔体可以根据用户的要求制作。例如,大小、配置、控制参数、窗口材料等。在高端的研究和应用场合,需要确保设备的性能和精度,所以定制真空腔体往往是必须的。


总之,真空腔体是在科学和工业中被广泛使用的高端设备。其特点是能够创建和维持低压或者真空环境,透明窗口让人们能够观察实验过程,设备能耗低,并且可以根据用户需求进行定制。



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