天津真空腔体是保证内部为真空状态的容器，许多先进技术工艺均需要在真空或惰性气体保护条件下完成，天津真空腔体则成为了这些工艺中不可或缺的基础设备。　

天津真空腔体是保持内部为真空状态的容器，天津真空腔体的制作要考虑容积、材质和形状。高真空度天津真空腔体是指真空度处于0.1-10-5Pa之间的天津真空腔体。　

高真空天津真空腔体主要应用于真空冶金、真空镀膜等领域，高真空甚至更高的真空所需的真空腔工艺更加复杂，进入门槛高，利润率也相对明显较高。　

2018年我国高真空度天津真空腔体产量为2.49万台，2021年为3.45万台，同比2018年增长8.96%。

我国各地区经济发展不平衡，从而也决定了目前国内高真空度天津真空腔体使用的不均衡，其中，大城市经济相对发达，工业发展程度高，对高真空度天津真空腔体的要求也相应较高。　

从地区分布来看，山东地区为16.53%、江苏地区为14.88%、上海地区为13.22%、浙江地区为9.92%、北京地区占比为8.26%、广东地区为8.26%、辽宁地区为5.95%，

其他地区为22.98%。　

我国高真空度天津真空腔体进口主要来源于美国、英国、法国等发达，欧美高真空度天津真空腔体具有品牌、质量优势，是我国高真空度天津真空腔体主要进口来源地。2022年我国高真空度天津真空腔体进口量为3104台，2020年为3789台，同比2019年增长6.53%。

2022年我国高真空度天津真空腔体进口额为976.36万美元，2020年为1192.09万美元，同比2019年增长3.92%。

真空技术随着越来越广的应用，遍及航空航天和军工、光伏发电等领域，是工业体系不可或缺的重要技术。

目前真空技术受到世界各国的重视，天津真空腔体、技术、材料、配件等有着广阔的市场前景。

高真空度天津真空腔体消费群体由下游企业构成，高真空度天津真空腔体主要运用于半导体制造、太阳能装备制造、光纤制造、食品机械、真空镀膜设备、医疗设备等行业。　

真空对人类主要的贡献有两点：对基础研究来说，提供了最清洁和最少受外界干扰的实验环境;对工业生产来说，则可以制造性能更优越、甚至自然界前所未有的材料。

事实上，19世纪电子的发现就是由于那时真空技术已发展到能获得一个使自由电子得以“生存”的空间。

而电子的发现不仅带来了20世纪的电子学，而且还开创了一系列基本粒子的先河，打开了物理学的新时代。

20世纪人类的三大成就是电子计算机、核能和航天器，但实际上它们都离不开真空。

例如，从计算机来说，所用的半导体集成电路就需要在真空中熔制和提纯硅单晶，以后的外延、掺杂、镀膜和刻蚀也都是真空工艺;而且除计算机的运算器和存贮器外，

大多数显示器现在仍然使用真空电子器件。

此外，我们还可以举出一大堆属于高技术范畴的材料工程、能源工程、生物工程(包括药物和保鲜)、环境工程等工业的主要生产系统，它们也都与真空技术密切相关。　

真空技术是民生产业及民间社会的重要支柱，在先进里，真空技术是产业的一个部门。

随着科技进步，在21世纪开始有一种倾向，即随着民用商品高效率生产(价格，品质竞争力)要求的加工、操作(过程软件)技能也必须划在真空技术企业的承担范围。

因为以真空技术为基础的机械装置制造业和使用这样的装置机械来生产民用商品的制造贩卖业之间在事业内容上有重叠。　

因此，随着越来越多的行业开始应用真空技术，高真空度天津真空腔体市场规模将进一步扩大。中国是世界半导体产品的主要消费国之一，市场规模占到亚太区总量的一半以上。

近几年来，对集成电路产业发展的政策、投资不断加大支持力度，为产业快速发展形成支撑;

同时，中国近年来制造业、金融业、互联网等产业的发展为智能互联提供了丰富的应用场景、海量数据和强大的市场需求;而对AI接受程度高、

强大的人才储备也成为在中国研发和市场推广的强劲推动力。　　

展望2024，智能化、物联网发展的序幕才刚刚拉开，半导体作为推动科技发展的核心要素也进入了全新的发展阶段，高真空度天津真空腔体行业前景广阔。