真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

真空镀膜是指在高真空条件下，利用各种物理或化学方法将靶材表面气化或电离，再沉积到基底表面形成薄膜。真空镀膜技术分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）。物理气相沉积法主要分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜。在钙钛矿层制备中，主流使用方法为蒸发镀膜，简称蒸镀法。

近年来，在国家高度重视前沿新材料应用及淘汰落后产能的背景下，国务院、国家发改委及工信部等主管部门陆续出台了一系列政策文件，大力支持真空镀膜设备行襄阳真空炉体温度控制业的发展。未来中国真空镀膜设备在政策利好的背景下，行业发展前景广阔。

中国真空镀膜设备行业相关政策梳理

根据数据显示，全球真空镀膜设备行业市场规模呈现逐年上涨态势，市场规模从2014年的218.44亿美元上涨至2021年的351.33亿美元，同比2020年上涨3.4%，年复合增长率为7.02%。

2014-2021年全球真空镀膜设备市场规模变化情况

目前中国正大力发展半导体、新一代信息产业、新材料、新能源、航天航空等产业，在此背景下真空镀膜行业将秉承高质量发展路线，进一步提升技术水平，增强核心竞争力襄阳真空炉体温度控制。根据数据显示，中国真空镀膜设备市场规模呈现逐年上涨态势，从2017年的256.22亿元上涨至2021年的485.81亿元，同比2020年上涨9.13%。年复合增长率为17.34%。

2017-2021年中国真空镀膜设备市场规模变化情况

中国真空镀膜设备细分产品主要为PVD镀膜设备、CVD镀膜设备、磁控溅射镀膜设备等，其中PVD镀膜设备占比最重，占比55.32%，CVD镀膜设备，占比36.67%，磁控溅射镀膜设备占比6.95%，其他占比1.05%。

2021年中国真空镀膜设备市场结构占比情况

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